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Vassoio di supporto in grafite per epitassia e ricottura

Harog Technology è uno dei maggiori fornitori di componenti in grafite per semiconduttori in Cina. Con 100.000 m2 di officina e oltre 500 dipendenti, Harog Technology da anni crea continuamente valore per i nostri clienti, proteggendo al contempo la proprietà intellettuale delle relative parti. Siamo già fornitori di marchi noti nel settore sia nazionali che internazionali e il feedback è sempre stato positivo.

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Descrizione del prodotto

Vantaggio del prodotto

• Materie prime di proprietà propria di prima qualità

• Tecnologie proprietarie di rivestimento e purificazione

• Operazioni di lavorazione a spettro completo e misure complete di controllo della qualità

Parametri tecnici

Scheda tecnica del vassoio di supporto in grafite di Harog per epitassia e ricottura

Applicazione	Purezza della grafite	Tolleranza	CTE	Capacità mensile	Nota
Epitassia del silicio	≤1 ppm	±0,005 mm	4.2	500 set	Produzione su disegno del cliente
Epitassia LED	≤1 ppm	±0,005 mm	4.0	1500 set	Produzione su disegno del cliente

Caratteristiche del prodotto

• Elevata purezza: progettato con grafite ad altissima purezza, che garantisce una contaminazione minima e condizioni ottimali di crescita dei cristalli.

• Stabilità termica: mostra un'eccezionale stabilità termica, mantenendo l'integrità strutturale a temperature elevate, cruciali per i processi di crescita dei cristalli.

• Superficie uniforme: presenta una superficie liscia e uniforme, che facilita la nucleazione e la crescita costante dei cristalli.

Vantaggi tecnici

• Conduttività superiore: l'elevata conduttività elettrica e termica supporta un efficiente trasferimento di energia, migliorando l'efficienza complessiva della crescita dei cristalli.

• Basso coefficiente di espansione: il basso coefficiente di espansione termica riduce al minimo la deformazione durante le fluttuazioni di temperatura, garantendo un controllo dimensionale preciso.

• Durabilità: eccezionale resistenza meccanica e resistenza all'usura, che garantisce affidabilità a lungo termine e riduce la necessità di frequenti sostituzioni del substrato.

Applicazioni

• Produzione di semiconduttori: utilizzata nella crescita epitassiale di materiali semiconduttori come il silicio e l'arseniuro di gallio, cruciali per la produzione di dispositivi elettronici ad alte prestazioni.

• Deposizione di film sottile: supporta i processi di deposizione di film sottile, fornendo una piattaforma stabile per la deposizione uniforme del materiale.

• Processi di ricottura: ideali per applicazioni di ricottura, in cui i materiali devono essere riscaldati e raffreddati in un ambiente controllato per ottenere le proprietà desiderate.

I vassoi di supporto in grafite di Harog Technology sono progettati per soddisfare i severi requisiti dei processi di epitassia e ricottura, offrendo una soluzione affidabile e ad alte prestazioni per la produzione di semiconduttori e film sottile.