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Vantagem do produto
• Matérias-primas próprias de qualidade premium
• Tecnologias proprietárias de revestimento e purificação
• Operações de usinagem de amplo espectro e medidas abrangentes de controle de qualidade
Parâmetros Técnicos
Folha de dados da bandeja de suporte de grafite da Harog para epitaxia e recozimento
Aplicativo |
Pureza de Grafite |
Tolerância |
CTE |
Capacidade Mensal |
Observação |
Epitaxia de Silício |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.2 |
500 conjuntos |
Fabricação baseada em desenhos do cliente |
Epitaxia LED |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.0 |
1500 conjuntos |
Recursos do produto
• Alta Pureza: Projetado com grafite de altíssima pureza, garantindo contaminação mínima e condições ideais de crescimento de cristais.
• Estabilidade Térmica: Apresenta estabilidade térmica excepcional, mantendo a integridade estrutural em temperaturas elevadas, cruciais para processos de crescimento de cristais.
• Superfície Uniforme: Apresenta uma superfície lisa e uniforme, facilitando a nucleação e o crescimento consistentes do cristal.
Vantagens Técnicas
• Condutividade Superior: A alta condutividade elétrica e térmica suporta uma transferência eficiente de energia, melhorando a eficiência geral do crescimento do cristal.
• Baixo coeficiente de expansão: O baixo coeficiente de expansão térmica minimiza a deformação durante flutuações de temperatura, garantindo controle dimensional preciso.
• Durabilidade: Excepcional resistência mecânica e resistência ao desgaste, proporcionando confiabilidade a longo prazo e reduzindo a necessidade de substituição frequente do substrato.
Aplicações
• Fabricação de Semicondutores: Usado no crescimento epitaxial de materiais semicondutores, como silício e arsenieto de gálio, cruciais para a produção de dispositivos eletrônicos de alto desempenho.
• Deposição de Filme Fino: Suporta processos de deposição de filme fino, fornecendo uma plataforma estável para deposição uniforme de material.
• Processos de recozimento: Ideal para aplicações de recozimento, onde os materiais precisam ser aquecidos e resfriados em um ambiente controlado para atingir as propriedades desejadas.
As bandejas de suporte de grafite da Harog Technology são projetadas para atender aos rigorosos requisitos dos processos de epitaxia e recozimento, oferecendo uma solução confiável e de alto desempenho para fabricação de semicondutores e filmes finos.