製品の利点
• 自社所有の最高品質の原材料
• 独自のコーティングおよび精製技術
• フルスペクトルの機械加工作業と包括的な品質管理対策
技術的パラメータ
ハログのエピタキシーおよびアニーリング用グラファイト サポート トレイのデータシート
応用 |
グラファイトの純度 |
許容範囲 |
CTE |
月間容量 |
注記 |
シリコンエピタキシー |
≤1ppm |
±0.005mm |
4.2 |
500セット |
お客様の図面をもとに製作 |
LEDエピタキシー |
≤1ppm |
±0.005mm |
4.0 |
1500セット |
製品の特徴
• 高純度: 超高純度グラファイトを使用して設計されており、汚染を最小限に抑え、最適な結晶成長条件を保証します。
• 熱安定性: 優れた熱安定性を示し、結晶成長プロセスに重要な高温でも構造の完全性を維持します。
• 均一な表面: 滑らかで均一な表面が特徴で、一貫した結晶核生成と成長を促進します。
技術的な利点
• 優れた伝導性: 高い電気伝導性と熱伝導性により、効率的なエネルギー伝達がサポートされ、結晶成長の全体的な効率が向上します。
• 低い膨張係数: 低い熱膨張係数により、温度変動時の変形が最小限に抑えられ、正確な寸法制御が保証されます。
• 耐久性: 優れた機械的強度と耐摩耗性により、長期的な信頼性を提供し、頻繁な基板交換の必要性を軽減します。
アプリケーション
• 半導体製造: 高性能電子デバイスの製造に不可欠な、シリコンやガリウムヒ素などの半導体材料のエピタキシャル成長に使用されます。
• 薄膜堆積: 薄膜堆積プロセスをサポートし、均一な材料堆積のための安定したプラットフォームを提供します。
• アニーリングプロセス: 望ましい特性を達成するために制御された環境で材料を加熱および冷却する必要があるアニーリング用途に最適です。
ハログ テクノロジーのグラファイト サポート トレイは、エピタキシーおよびアニーリング プロセスの厳しい要件を満たすように設計されており、半導体および薄膜製造に信頼性の高い高性能ソリューションを提供します。
