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半導体処理装置向けの超高純度グラファイト部品を提供します。当社の製品は、ウェーハ処理用途に不可欠な優れた熱安定性と正確な寸法制御を特徴としています。高度な精製プロセスにより金属汚染が最小限に抑えられ、最適化された設計により一貫した熱分布がサポートされます。これらのコンポーネントは、イオン注入や蒸着などのさまざまな半導体製造プロセス向けに特別に設計されています。当社の半導体グレードのグラファイト材料は、現代の半導体製造の厳しい要件を満たすために広範な精製および品質管理手順を経ています。製品範囲には、さまざまなプロセスステップに特化したコンポーネントが含まれており、それぞれが極端な条件下でも完全性を維持できるように設計されています。当社は、既存の半導体処理装置への最適な統合を保証するための包括的な技術サポートと文書を提供します。当社のソリューションは、半導体技術の進歩による進化する需要に対応するために継続的に更新されています。
エピタキシーおよびアニーリング用グラファイトサポートトレイ
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イオン注入用のグラファイトアパーチャ
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SiC コーティングされたグラファイト部品
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結晶成長用グラファイト基板
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半導体黒鉛原料
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精度、品質、卓越性を備えた革新。
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本社:中国浙江省長興県水素エネルギー機器製造工業団地
オフィス: 中国江蘇省蘇州市工業団地万龍広場605-1
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