製品の利点
• 自社所有の最高品質の原材料
• 独自のコーティングおよび精製技術
• フルスペクトルの機械加工作業と包括的な品質管理対策
技術的パラメータ
ハログ社の結晶成長用グラファイト基板のデータシート
結晶の種類 |
グラファイトの純度 |
許容範囲 |
CTE |
月間容量 |
注記 |
シリコン |
≤1ppm |
±0.005mm |
4.4 |
800セット |
お客様の図面をもとに製作 |
シック |
≤1ppm |
±0.005mm |
4.0 |
2000セット |
Ga2O3 |
≤1ppm |
±0.005mm |
4.0 |
1000セット |
GaN |
≤1ppm |
±0.005mm |
4.2 |
1000セット |
製品の特徴
• 高純度: 超高純度グラファイトを使用して設計されており、汚染を最小限に抑え、最適な結晶成長条件を保証します。
• 熱安定性: 優れた熱安定性を示し、結晶成長プロセスに重要な高温でも構造の完全性を維持します。
• 均一な表面: 滑らかで均一な表面が特徴で、一貫した結晶核生成と成長を促進します。
技術的な利点
• 優れた伝導性: 高い電気伝導性と熱伝導性により、効率的なエネルギー伝達がサポートされ、結晶成長の全体的な効率が向上します。
• 低い膨張係数: 低い熱膨張係数により、温度変動時の変形が最小限に抑えられ、正確な寸法制御が保証されます。
• 耐久性: 優れた機械的強度と耐摩耗性により、長期的な信頼性を提供し、頻繁な基板交換の必要性を軽減します。
アプリケーション
• 半導体産業: 高度な電子デバイスの製造に不可欠なシリコンやガリウムヒ素などの高品質の半導体結晶の成長に利用されます。
• オプトエレクトロニクス: 安定した導電性の成長プラットフォームを提供することで、LED やレーザー ダイオードなどのオプトエレクトロニクス材料の生産をサポートします。
• 研究開発: 実験室規模の結晶成長実験に最適で、研究者は新しい材料や成長技術を高い精度と再現性で探索できます。
ハログ テクノロジーの結晶成長用グラファイト基板は、現代の材料科学の厳しい要件を満たすように設計されており、さまざまな結晶成長用途に信頼性の高い高性能ソリューションを提供します。
