Produktvorteil
• Eigene Rohstoffe in Premiumqualität
• Proprietäre Beschichtungs- und Reinigungstechnologien
• Umfassende Bearbeitungsvorgänge und umfassende Qualitätskontrollmaßnahmen
Technische Parameter
Datenblatt von Harogs Graphitsubstrat für das Kristallwachstum
Kristalltyp |
Graphitreinheit |
Toleranz |
CTE |
Monatliche Kapazität |
Notiz |
Silizium |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.4 |
800 Sätze |
Fertigung nach Kundenzeichnungen |
Sic |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.0 |
2000 Sätze |
Ga2O3 |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.0 |
1000 Sätze |
GaN |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.2 |
1000 Sätze |
Produktmerkmale
• Hohe Reinheit: Hergestellt aus hochreinem Graphit, der minimale Kontamination und optimale Kristallwachstumsbedingungen gewährleistet.
• Thermische Stabilität: Weist eine außergewöhnliche thermische Stabilität auf und behält die strukturelle Integrität bei erhöhten Temperaturen bei, die für Kristallwachstumsprozesse entscheidend sind.
• Gleichmäßige Oberfläche: Verfügt über eine glatte und gleichmäßige Oberfläche, die eine gleichmäßige Kristallkeimbildung und -wachstum erleichtert.
Technische Vorteile
• Hervorragende Leitfähigkeit: Hohe elektrische und thermische Leitfähigkeit unterstützen eine effiziente Energieübertragung und verbessern die Gesamteffizienz des Kristallwachstums.
• Niedriger Ausdehnungskoeffizient: Der niedrige Wärmeausdehnungskoeffizient minimiert die Verformung bei Temperaturschwankungen und gewährleistet eine präzise Maßkontrolle.
• Haltbarkeit: Außergewöhnliche mechanische Festigkeit und Verschleißfestigkeit sorgen für langfristige Zuverlässigkeit und reduzieren die Notwendigkeit eines häufigen Substratwechsels.
Anwendungen
• Halbleiterindustrie: Wird für die Züchtung hochwertiger Halbleiterkristalle wie Silizium und Galliumarsenid verwendet, die für die Herstellung fortschrittlicher elektronischer Geräte unerlässlich sind.
• Optoelektronik: Unterstützt die Produktion optoelektronischer Materialien, einschließlich LEDs und Laserdioden, durch Bereitstellung einer stabilen und leitfähigen Wachstumsplattform.
• Forschung und Entwicklung: Ideal für Experimente zur Kristallzüchtung im Labormaßstab, die es Forschern ermöglichen, neue Materialien und Wachstumstechniken mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit zu erforschen.
Die Graphitsubstrate von Harog Technology für das Kristallwachstum sind so konzipiert, dass sie die strengen Anforderungen der modernen Materialwissenschaft erfüllen und eine zuverlässige und leistungsstarke Lösung für verschiedene Kristallwachstumsanwendungen bieten.
