Produktvorteil
• Eigene Rohstoffe in Premiumqualität
• Proprietäre Beschichtungs- und Reinigungstechnologien
• Umfassende Bearbeitungsvorgänge und umfassende Qualitätskontrollmaßnahmen
Technische Parameter
Datenblatt der Graphit-Trägerplatte von Harog für Epitaxie und Glühen
Anwendung |
Graphitreinheit |
Toleranz |
CTE |
Monatliche Kapazität |
Notiz |
Siliziumepitaxie |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.2 |
500 Sätze |
Fertigung nach Kundenzeichnungen |
LED-Epitaxie |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.0 |
1500 Sätze |
Produktmerkmale
• Hohe Reinheit: Hergestellt aus hochreinem Graphit, der minimale Kontamination und optimale Kristallwachstumsbedingungen gewährleistet.
• Thermische Stabilität: Weist eine außergewöhnliche thermische Stabilität auf und behält die strukturelle Integrität bei erhöhten Temperaturen bei, die für Kristallwachstumsprozesse entscheidend sind.
• Gleichmäßige Oberfläche: Verfügt über eine glatte und gleichmäßige Oberfläche, die eine gleichmäßige Kristallkeimbildung und -wachstum erleichtert.
Technische Vorteile
• Hervorragende Leitfähigkeit: Hohe elektrische und thermische Leitfähigkeit unterstützen eine effiziente Energieübertragung und verbessern die Gesamteffizienz des Kristallwachstums.
• Niedriger Ausdehnungskoeffizient: Der niedrige Wärmeausdehnungskoeffizient minimiert die Verformung bei Temperaturschwankungen und gewährleistet eine präzise Maßkontrolle.
• Haltbarkeit: Außergewöhnliche mechanische Festigkeit und Verschleißfestigkeit sorgen für langfristige Zuverlässigkeit und reduzieren die Notwendigkeit eines häufigen Substratwechsels.
Anwendungen
• Halbleiterherstellung: Wird beim epitaktischen Wachstum von Halbleitermaterialien wie Silizium und Galliumarsenid verwendet, die für die Herstellung elektronischer Hochleistungsgeräte von entscheidender Bedeutung sind.
• Dünnschichtabscheidung: Unterstützt Dünnschichtabscheidungsprozesse und bietet eine stabile Plattform für eine gleichmäßige Materialabscheidung.
• Glühprozesse: Ideal für Glühanwendungen, bei denen Materialien in einer kontrollierten Umgebung erhitzt und abgekühlt werden müssen, um die gewünschten Eigenschaften zu erreichen.
Die Graphit-Trägerschalen von Harog Technology sind so konzipiert, dass sie die strengen Anforderungen von Epitaxie- und Glühprozessen erfüllen und eine zuverlässige und leistungsstarke Lösung für die Halbleiter- und Dünnschichtherstellung bieten.
