Avantage du produit
• Matières premières appartenant à notre propre entreprise et de qualité supérieure
• Technologies exclusives de revêtement et de purification
• Opérations d'usinage à spectre complet et mesures complètes de contrôle de qualité
Paramètres techniques
Fiche technique du plateau de support en graphite de Harog pour l'épitaxie et le recuit
Application |
Pureté du graphite |
Tolérance |
CTE |
Capacité mensuelle |
Note |
Epitaxie de Silicium |
≤1 ppm |
±0,005mm |
4.2 |
500 ensembles |
Fabrication sur plan client |
Epitaxie LED |
≤1 ppm |
±0,005mm |
4.0 |
1500 ensembles |
Caractéristiques du produit
• Haute pureté : Conçu avec du graphite de très haute pureté, garantissant une contamination minimale et des conditions de croissance cristalline optimales.
• Stabilité thermique : présente une stabilité thermique exceptionnelle, maintenant l'intégrité structurelle à des températures élevées cruciales pour les processus de croissance cristalline.
• Surface uniforme : présente une surface lisse et uniforme, facilitant la nucléation et la croissance constantes des cristaux.
Avantages techniques
• Conductivité supérieure : une conductivité électrique et thermique élevée favorise un transfert d'énergie efficace, améliorant ainsi l'efficacité globale de la croissance cristalline.
• Faible coefficient de dilatation : le faible coefficient de dilatation thermique minimise la déformation lors des fluctuations de température, assurant un contrôle dimensionnel précis.
• Durabilité : Résistance mécanique et résistance à l'usure exceptionnelles, offrant une fiabilité à long terme et réduisant le besoin de remplacement fréquent du substrat.
Applications
• Fabrication de semi-conducteurs : utilisé dans la croissance épitaxiale de matériaux semi-conducteurs tels que le silicium et l'arséniure de gallium, essentiels à la production de dispositifs électroniques hautes performances.
• Dépôt de couches minces : prend en charge les processus de dépôt de couches minces, fournissant une plate-forme stable pour un dépôt de matériau uniforme.
• Processus de recuit : Idéal pour les applications de recuit, où les matériaux doivent être chauffés et refroidis dans un environnement contrôlé pour obtenir les propriétés souhaitées.
Les plateaux de support en graphite de Harog Technology sont conçus pour répondre aux exigences strictes des processus d'épitaxie et de recuit, offrant une solution fiable et performante pour la fabrication de semi-conducteurs et de couches minces.
