Avantage du produit
• Matières premières appartenant à notre propre entreprise et de qualité supérieure
• Technologies exclusives de revêtement et de purification
• Opérations d'usinage à spectre complet et mesures de contrôle qualité complètes
Paramètres techniques
Fiche technique du substrat graphite de Harog pour la croissance cristalline
Type de cristal |
Pureté du graphite |
Tolérance |
CTE |
Capacité mensuelle |
Note |
Silicium |
≤1 ppm |
±0,005mm |
4.4 |
800 ensembles |
Fabrication sur plan client |
Sic |
≤1 ppm |
±0,005mm |
4.0 |
2000 ensembles |
Ga2O3 |
≤1 ppm |
±0,005mm |
4.0 |
1000 ensembles |
GaN |
≤1 ppm |
±0,005mm |
4.2 |
1000 ensembles |
Caractéristiques du produit
• Haute pureté : Conçu avec du graphite de très haute pureté, garantissant une contamination minimale et des conditions de croissance cristalline optimales.
• Stabilité thermique : présente une stabilité thermique exceptionnelle, maintenant l'intégrité structurelle à des températures élevées cruciales pour les processus de croissance cristalline.
• Surface uniforme : présente une surface lisse et uniforme, facilitant la nucléation et la croissance constantes des cristaux.
Avantages techniques
• Conductivité supérieure : une conductivité électrique et thermique élevée favorise un transfert d'énergie efficace, améliorant ainsi l'efficacité globale de la croissance cristalline.
• Faible coefficient de dilatation : le faible coefficient de dilatation thermique minimise la déformation lors des fluctuations de température, assurant un contrôle dimensionnel précis.
• Durabilité : Résistance mécanique et résistance à l'usure exceptionnelles, offrant une fiabilité à long terme et réduisant le besoin de remplacement fréquent du substrat.
Applications
• Industrie des semi-conducteurs : utilisé dans la croissance de cristaux semi-conducteurs de haute qualité, tels que le silicium et l'arséniure de gallium, essentiels à la fabrication d'appareils électroniques avancés.
• Optoélectronique : prend en charge la production de matériaux optoélectroniques, notamment les LED et les diodes laser, en fournissant une plate-forme de croissance stable et conductrice.
• Recherche et développement : idéal pour les expériences de croissance cristalline à l'échelle du laboratoire, permettant aux chercheurs d'explorer de nouveaux matériaux et techniques de croissance avec une précision et une répétabilité élevées.
Les substrats en graphite pour la croissance cristalline de Harog Technology sont conçus pour répondre aux exigences strictes de la science des matériaux moderne, offrant une solution fiable et performante pour diverses applications de croissance cristalline.
