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Vantaggio del prodotto
• Materie prime di proprietà propria di prima qualità
• Tecnologie proprietarie di rivestimento e purificazione
• Operazioni di lavorazione a spettro completo e misure complete di controllo della qualità
Parametri tecnici
Scheda tecnica del substrato di grafite di Harog per la crescita dei cristalli
Tipo di cristallo |
Purezza della grafite |
Tolleranza |
CTE |
Capacità mensile |
Nota |
Silicio |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.4 |
800 set |
Produzione su disegno del cliente |
Sì |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.0 |
2000 set |
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Ga2O3 |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.0 |
1000 set |
|
GaN |
≤1 ppm |
±0,005 mm |
4.2 |
1000 set |
Caratteristiche del prodotto
• Elevata purezza: progettato con grafite ad altissima purezza, che garantisce una contaminazione minima e condizioni ottimali di crescita dei cristalli.
• Stabilità termica: mostra un'eccezionale stabilità termica, mantenendo l'integrità strutturale a temperature elevate, cruciali per i processi di crescita dei cristalli.
• Superficie uniforme: presenta una superficie liscia e uniforme, che facilita la nucleazione e la crescita costante dei cristalli.
Vantaggi tecnici
• Conduttività superiore: l'elevata conduttività elettrica e termica supporta un efficiente trasferimento di energia, migliorando l'efficienza complessiva della crescita dei cristalli.
• Basso coefficiente di espansione: il basso coefficiente di espansione termica riduce al minimo la deformazione durante le fluttuazioni di temperatura, garantendo un controllo dimensionale preciso.
• Durabilità: eccezionale resistenza meccanica e resistenza all'usura, che garantisce affidabilità a lungo termine e riduce la necessità di frequenti sostituzioni del substrato.
Applicazioni
• Industria dei semiconduttori: utilizzata nella crescita di cristalli semiconduttori di alta qualità, come il silicio e l'arseniuro di gallio, essenziali per la produzione di dispositivi elettronici avanzati.
• Optoelettronica: supporta la produzione di materiali optoelettronici, inclusi LED e diodi laser, fornendo una piattaforma di crescita stabile e conduttiva.
• Ricerca e sviluppo: ideale per esperimenti di crescita dei cristalli su scala di laboratorio, consentendo ai ricercatori di esplorare nuovi materiali e tecniche di crescita con elevata precisione e ripetibilità.
I substrati in grafite di Harog Technology per la crescita dei cristalli sono progettati per soddisfare i severi requisiti della moderna scienza dei materiali, offrendo una soluzione affidabile e ad alte prestazioni per varie applicazioni di crescita dei cristalli.