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sulle parti in grafite per semiconduttori !
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Arresta la delaminazione della grafite rivestita in SiC nei tessuti dei semiconduttori. Scopri le cause principali, le correzioni delle mancate corrispondenze CTE e suggerimenti sull'approvvigionamento ad alto rendimento.
Blocca i difetti delle particelle nelle fabbriche di semiconduttori. Scopri perché Ra fallisce e come la rugosità Rz impedisce lo sfaldamento e l'intrappolamento delle parti in grafite rivestite in SiC.
Arresta la perdita di wafer: verifica lo spessore del rivestimento SiC (50–120 µm), l'uniformità del ±10% e la corrispondenza CTE per evitare delaminazione e contaminazione.
